咨询热线

13810961731

当前位置:首页  >  产品展示  >  沉积系统  >  

产品分类

Product Category

相关文章

Related Articles
  • 电浆原子层沉积设备
    电浆原子层沉积设备

    电浆原子层沉积设备是一种基于常规ALD的先进方法,其利用电浆作为裂化前驱物材料的条件,而不是仅依靠来自加熱基板的熱能。

    更新时间:2024-01-18型号:访问量:304
    查看详情
  • 原子层沉积设备
    原子层沉积设备

    原子层沉积设备为一种气相化学沉积技术。大多数的ALD反应,将使用两种化学物质称为前驱物。这些前驱物以连续且自限的方式与材料表面进行反应。

    更新时间:2024-01-18型号:访问量:503
    查看详情
  • 原子层沉积系統
    原子层沉积系統

    原子层沉积系統是基于顺序使用气相化学过程的最重要技术之一;它可以被视为一种特殊类型的化学气相沉积(CVD)。多数ALD反应使用两种或更多种化学物质(称为前驱物,也称为”反应物“)。

    更新时间:2024-01-18型号:访问量:323
    查看详情
  • 批量式电浆辅助气相沉积设备
    批量式电浆辅助气相沉积设备

    批量式电浆辅助气相沉积设备为一种使用化学气相沉积技术,可为沉积反应提供能量。与传统的CVD方法相比,可在较低的温度下沉积各种薄膜且不会降低薄膜质量。

    更新时间:2024-01-18型号:访问量:298
    查看详情
  • FPD-PECVD 电浆辅助化学气相沉积
    FPD-PECVD 电浆辅助化学气相沉积

    FPD-PECVD 电浆辅助化学气相沉积:随着LCD面板和制造所需玻璃的尺寸的增加,其制造设备也变得更大,需要越来越大的设备投资。SYSKEY针对中小尺寸的需求开发串集的PECVD 设备,提供非晶矽(a-Si),氧化矽(SiOx),氮氧化矽(SiON),氮化矽(SiNx)和多层膜沉积。

    更新时间:2023-09-20型号:访问量:281
    查看详情
  • 感应耦合电浆化学气相沉积设备
    感应耦合电浆化学气相沉积设备

    感应耦合电浆化学气相沉积设备是一种使用ICP的化学气相沉积技术,可为沉积反应提供一些能量。与PECVD方法相比,ICP-CVD可以在较低的温度下沉积各种薄膜而不会降低薄膜质量。因使用ICP做为电浆源,有电浆浓度较高、能量损耗较低、功率較大与反应速率较高等优点。

    更新时间:2024-01-18型号:访问量:286
    查看详情
  • 低真空化学气相沉积设备
    低真空化学气相沉积设备

    低真空化学气相沉积设备是一种化学气相沉积技术,利用热能在基板表面上引发前驱气体的反应。表面的反应是形成固化材料的原因。

    更新时间:2024-01-18型号:访问量:319
    查看详情
  • 电浆辅助式化学气相沉积设备
    电浆辅助式化学气相沉积设备

    电浆辅助式化学气相沉积设备是一种使用电浆的化学气相沉积(CVD)技术,可为沉积反应提供一些能量。与传统的CVD方法相比,PECVD可以在较低的温度下沉积各种薄膜且不会降低薄膜质量。

    更新时间:2023-09-22型号:访问量:313
    查看详情
共 19 条记录,当前 1 / 3 页  首页  上一页  下一页  末页  跳转到第页