在半导体、光伏、光学器件等高新技术领域，薄膜材料的制备是器件性能的核心保障，沉积系统通过精准控制材料原子或分子的堆积过程，成为各类功能薄膜的“定制化生长平台”，广泛应用于从基础研究到工业化生产的全链条。
在半导体芯片制造中，化学气相沉积（CVD）系统是制备晶圆薄膜的核心设备。通过将硅烷等气体通入反应腔，在高温（600-1100℃）与等离子体作用下，硅原子沉积在晶圆表面形成氧化层或掺杂层，膜厚控制精度可达±1nm，满足7nm以下制程对栅极绝缘层的严苛要求。物理气相沉积（PVD）系统则常用于金属布线制备，在真空环境中通过溅射或蒸发将铝、铜等金属原子沉积到晶圆上，形成导电线路，其台阶覆盖率超过90%，确保复杂三维结构的电学连接。
光伏行业中，沉积系统为高效太阳能电池提供关键薄膜。采用等离子体增强化学气相沉积（PECVD）技术，在玻璃或硅片表面沉积氮化硅减反射膜，可将光吸收效率提升15%以上；钙钛矿太阳能电池研发中，原子层沉积（ALD）系统能制备厚度仅10nm的氧化钛电子传输层，凭借单原子层精度的可控性，大幅提升电池的稳定性与寿命。
光学器件领域，沉积系统可定制特殊光学薄膜。例如在激光雷达镜头制造中，通过电子束蒸发沉积系统交替生长高折射率（如二氧化钛）与低折射率（如二氧化硅）薄膜，形成增透膜，使镜头透光率从90%提升至99.5%；红外探测器的滤光片则依赖磁控溅射沉积系统，精准控制薄膜成分比例，实现特定波长的光选择性透过。此外，沉积系统在传感器制备中也，如在柔性压力传感器表面沉积纳米金属薄膜，通过控制膜层孔隙率调节其电阻灵敏度，满足可穿戴设备的检测需求。
