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  • 2025

    4-11

    共聚焦显微镜(ConfocalMicroscope)是一种常用于生物学、医学及材料科学研究的高分辨率显微镜。它通过使用激光扫描样本并结合光学切片技术,可以得到非常清晰的图像。以下是共聚焦显微镜的基本使用步骤:1.准备样本将需要观察的样本制备好,通常需要进行染色以便清晰显示感兴趣的结构。样本可以是切片、细胞、组织或其他适合观察的材料。如果使用激光扫描共聚焦显微镜,确保样本适合激光激发并且光学透明。2.安装样本将样本固定在显微镜的载物台上。确保样本平整且固定,避免在观察过程中移动...

  • 2025

    3-12

    聚焦离子束扫描电镜(FIB-SEM)系统融合了聚焦离子束(FIB)的微区加工能力和扫描电子显微镜(SEM)的高分辨率成像技术,以下是该系统的操作要点及常见问题:操作要点以FEIHelios600双束系统为例,聚焦离子束扫描电镜系统的操作要点主要包括以下步骤:装样:准备好样品后,按照实验记录表上的要求,认真检查实验前和打开腔门前的检查项目。待真空腔图标变为灰色时,缓缓拉开腔门放置样品,并检查记录表上放置样品的检查项目。等待样品腔真空度达到要求后方可开始实验。SEM成像:激活电子...

  • 2025

    3-4

    使用X射线显微镜时,为确保安全和设备的正常运行,需要遵守一系列重要的安全事项。以下是一些关键的注意事项:一、辐射防护1、时间防护:尽量缩短人体在X射线场的暴露时间,避免长时间停留在X射线辐射区域。例如在进行样品检测时,提前规划好操作步骤,以高效的动作完成检测过程。2、距离防护:保持与X射线源及被照射物体一定的安全距离。因为X射线的强度与距离的平方成反比,距离越远,辐射剂量越小。3、屏蔽防护:使用合适的屏蔽材料,如铅板、铅衣等,将人体与X射线源隔开。在操作时,应穿戴好铅衣、铅帽...

  • 2025

    2-27

    自动扫描薄膜测量仪器是一种用于精确测量薄膜厚度、表面形貌、光学特性等的高精度设备,广泛应用于半导体、光电、材料科学、涂层技术等领域。这类仪器的主要特点是能够通过非接触式方式对薄膜进行精确测量,并且提供实时数据分析。以下是自动扫描薄膜测量仪器的主要性能优势:1.高精度和高分辨率自动扫描薄膜测量仪器通常采用先进的传感技术(如激光、白光干涉、光谱反射等),能够实现高精度的测量,误差通常控制在纳米级别。这使得它们能够精确测量非常薄的膜层(如几十纳米厚的薄膜),对于高精度薄膜厚度和表面...

  • 2025

    2-8

    卡尔蔡司电子显微镜的维护和保养要求如下:一、环境条件1、温度:一般要求在15℃-30℃之间,避免温度过高或过低影响仪器稳定性和精度。2、湿度:应存放在干燥的地方,防止潮湿,冬季室内湿度低时要注意防潮,避免产生静电影响仪器效果和精度。3、光线:需放置在有适当光线的地方,以便操作人员观察样品。二、日常清洁1、光路系统:定期对光路系统进行清洁保养,去除灰尘、油污等污染物,可使用专用的清洁工具和试剂,如镜头纸、无水乙醇等,但要注意避免刮伤光学部件。2、外部清洁:每次使用后,用干净的软...

  • 2025

    2-8

    显微镜:窥视微观世界的神奇之窗在科学探索的长河中,显微镜无疑是一把打开微观世界大门的神奇钥匙。自从17世纪初荷兰的眼镜制造商发明了第一台简单的显微镜以来,这一工具已经极大地推动了生物学、医学、材料科学等多个领域的进步。显微镜的用途广泛,它不仅让我们能够观察到肉眼无法看到的微小生物和结构,还帮助科学家们深入理解生命的基本过程和物质的微观特性。生物学研究在生物学领域,显微镜是研究细胞结构和功能的工具。通过光学显微镜,科学家们可以观察到细胞的形态、细胞器的分布以及细胞间的相互作用。...

  • 2025

    1-15

    体视显微镜(立体显微镜)是一种常用于观察样本的三维结构和细节的显微镜,它能够提供较低的放大倍率以及较大视野。体视显微镜通常具有屈光度调节功能,主要用于调节视力差异或眼睛的调节,使不同的观察者能够舒适地观察图像。以下是体视显微镜屈光度调节的方法:1.屈光度调节环(眼距调节)功能:屈光度调节环通常位于显微镜目镜部分,允许使用者根据其眼睛的屈光度调整视力。对于戴眼镜的人来说,屈光度调节环可以帮助他们在不佩戴眼镜的情况下获得清晰的图像。操作方法:确保显微镜镜头已对焦,样本已清晰可见。...

  • 2025

    1-2

    电子束光刻系统在半导体制造中的具体应用主要体现在以下几个方面:1、纳米器件和纳米结构的制造:电子束光刻技术能够实现纳米级别的高分辨率图案刻画,这对于制造尺寸越来越小的半导体器件至关重要。通过电子束直写系统,可以在半导体材料上直接刻画出复杂的纳米结构,如晶体管、微处理器等关键组件。2、光刻掩模板的制造:在半导体制造过程中,光刻掩模板是用于定义电路图案的关键工具。电子束光刻系统能够以高精度制造这些掩模板,确保电路图案的准确性和一致性。3、先进原理样机的研制:电子束光刻技术还可用于...

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