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单腔体脉冲激光沉积系统是一种先进的材料制备技术,它利用脉冲激光的高能量密度来蒸发和电离靶材上的物质,并在基底上沉积形成各种物质薄膜。这种系统通常包括一个沉积室,其中激光聚焦于靶材上的一个小面积,使其材料蒸发或电离并向基底运动。基底通常保持在较低的温度,以便在沉积过程中形成高质量的薄膜。
双腔体脉冲激光沉积系统(Dual Chamber Pulsed Laser Deposition System)是一种先进的薄膜制备技术,它结合了脉冲激光沉积(PLD)技术和双腔体设计的优势。这种系统通常用于在实验室环境中生长高质量的薄膜材料,广泛应用于物理、化学、材料科学和工程等领域。