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双腔体脉冲激光沉积系统

简要描述:双腔体脉冲激光沉积系统(Dual Chamber Pulsed Laser Deposition System)是一种先进的薄膜制备技术,它结合了脉冲激光沉积(PLD)技术和双腔体设计的优势。这种系统通常用于在实验室环境中生长高质量的薄膜材料,广泛应用于物理、化学、材料科学和工程等领域。

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  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-04-24
  • 访  问  量:115

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详细介绍

品牌其他品牌价格区间10万-50万
应用领域化工,石油,交通,制药,综合腔体尺寸球形腔体,直径:400 mm
样品尺寸1 英寸或 2 英寸向下兼容样品加热辐射式加热 / 电阻式加热 / 激光加热 1000 ℃ / 950 ℃ / 1400 ℃
靶台操控6 靶位,1 英寸靶托,公自转设计抽气泵组国产: BWVAC油泵,360 l/min KYKY分子泵,600 l/s
真空测量国产:Reborn电阻电离复合规气路国产:质量流量计Flowmethod,50 / 100 sccm
控压方式手动角阀/漏阀控压极限真空手动角阀/漏阀控压
极限真空5 x 10-9 mbar

双腔体脉冲激光沉积系统Dual Chamber Pulsed Laser Deposition System)是一种先进的薄膜制备技术,它结合了脉冲激光沉积(PLD)技术和双腔体设计的优势。这种系统通常用于在实验室环境中生长高质量的薄膜材料,广泛应用于物理、化学、材料科学和工程等领域。

脉冲激光沉积(PLD)是一种物理气相沉积技术,它利用高能量的脉冲激光束轰击靶材表面,使靶材物质迅速蒸发、电离并形成等离子体羽辉。这些高能量的离子和原子随后沉积在基片表面,经过成核和生长过程形成薄膜。PLD具有生长速度快、薄膜成分易于控制、能够保持靶材的原始结构等优点。

双腔体设计则进一步提高了PLD系统的灵活性和功能性。该系统通常包含两个独立的沉积腔室,每个腔室都可以独立地进行薄膜生长过程。这种设计允许研究人员在同一台设备上同时制备不同种类的薄膜,或者在不同的生长条件下进行对比实验。此外,双腔体设计还可以减少实验过程中的污染和交叉污染风险,提高实验结果的可靠性。

双腔体脉冲激光沉积系统通常配备有先进的光学系统、激光系统、真空系统和控制系统等组件。光学系统用于精确控制激光束的聚焦和定位,确保激光能够准确地轰击靶材表面。激光系统则提供高能量的脉冲激光束,激发靶材物质形成等离子体羽辉。真空系统则用于维持腔室内的高真空环境,防止外界气体对薄膜生长的干扰。控制系统则负责整个系统的自动化运行和参数调整,确保实验过程的稳定性和可重复性。

总之,双腔 体脉冲激光沉积系统是一种高效、灵活且可靠的薄膜制备技术,它在材料科学研究和新材料开发中发挥着重要作用。通过精确控制实验条件和参数,研究人员可以制备出具有优异性能的新型薄膜材料,为推动科技进步和创新做出重要贡献。


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