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单腔体脉冲激光沉积系统

简要描述:单腔体脉冲激光沉积系统是一种先进的材料制备技术,它利用脉冲激光的高能量密度来蒸发和电离靶材上的物质,并在基底上沉积形成各种物质薄膜。这种系统通常包括一个沉积室,其中激光聚焦于靶材上的一个小面积,使其材料蒸发或电离并向基底运动。基底通常保持在较低的温度,以便在沉积过程中形成高质量的薄膜。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-04-24
  • 访  问  量:66

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详细介绍

品牌其他品牌价格区间10万-50万
应用领域化工,石油,交通,制药,综合腔体尺寸圆柱形腔体,直径:400 mm
样品尺寸1 英寸或 2 英寸向下兼容样品加热辐射式加热 / 电阻式加热 / 激光加热 1000 ℃ / 900 ℃ / 1200 ℃
靶台操控4 靶位,1 英寸靶托,公自转设计抽气泵组进口:Pfeiffer分子泵,355 l/s Leybold干泵,14.5 m3/h
真空测量进口:Inficon MPG400复合规 + CDG025D薄膜规气路进口:质量流量计MKS,50 / 100 sccm
控压方式手动角阀/漏阀控压极限真空5 x 10-8 mbar
光路支架根据用户现场情况定制软件控制动作程序控制,软件编程控制工艺,设备全套互锁

单腔体脉冲激光沉积系统是一种先进的材料制备技术,它利用脉冲激光的高能量密度来蒸发和电离靶材上的物质,并在基底上沉积形成各种物质薄膜。这种系统通常包括一个沉积室,其中激光聚焦于靶材上的一个小面积,使其材料蒸发或电离并向基底运动。基底通常保持在较低的温度,以便在沉积过程中形成高质量的薄膜。

单腔体脉冲激光 沉积系统的主要特点包括:

1. 高沉积速率:由于激光的高能量密度,靶材上的物质可以迅速蒸发和沉积到基底上,从而实现较高的沉积速率。

2. 精确控制:系统可以精确控制激光的脉冲能量、频率和持续时间,从而实现对薄膜厚度和沉积速率的精确控制。

3. 灵活性和多样性:该系统可以制备多种不同类型的薄膜,包括金属、氧化物、氮化物等。此外,通过调节工艺参数,还可以制备出具有不同结构和性能的薄膜。

4. 高质量薄膜:由于激光的高能量密度和精确控制,该系统可以制备出高质量、均匀且致密的薄膜,适用于各种应用。

单腔体脉冲激光 沉积系统广泛应用于材料科学、物理学、化学和工程学等领域,用于制备各种功能薄膜,如光学薄膜、电子薄膜、超导薄膜等。此外,该系统还用于研究薄膜的生长机制、晶体结构、表面形貌和性能等方面。

需要注意的是,单腔体脉冲激光沉积系统的使用需要一定的专业知识和经验。在操作过程中,需要严格控制激光参数、基底温度、气氛等条件,以确保制备出高质量的薄膜。此外,该系统还需要定期维护和清洁,以保持其性能和稳定性。

总之,单腔体脉冲激光沉积 系统是一种重要的材料制备技术,具有广泛的应用前景和重要的科学价值。随着技术的不断发展和完善,它将在材料科学、物理学、化学和工程学等领域发挥越来越重要的作用。


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