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电浆原子层沉积设备

简要描述:电浆原子层沉积设备是一种基于常规ALD的先进方法,其利用电浆作为裂化前驱物材料的条件,而不是仅依靠来自加熱基板的熱能。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-01-18
  • 访  问  量:352

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品牌其他品牌应用领域环保,化工,电子

电浆原子层沉积设备(PEALD)是一種基於常規ALD的先進方法,其利用電漿作為裂化前驅物材料的條件,而不是僅依靠來自加熱基板的熱能。 製程中只需靠電漿來進行裂化前驅物材料,無需高溫來傳遞必要的活化能。SYSKEY的系統可以精準的控制電漿與ALD的製程,薄膜的厚度和均勻度皆+/- 1%。


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电浆原子层沉积设备参数:

應用領域腔體
  • 高k值之氧化物。

  • OLED和矽太陽能電池的鈍化層。

  • 微機電系統。

  • 納米電子學。

  • 納米孔結構薄膜。

  • 光學薄膜。

  • 薄膜封裝技術。

  • 鋁腔或者不銹鋼腔體,其佔地面積小,可縮短製程時間。

  • 通過使用水冷系統、加熱器或加熱包來控制腔體溫度。




配置和優點選件
  • 客製化的基板尺寸,最大直徑可達300mm晶圓。

  • 優異的薄膜均勻度小於±1%。

  • 較高的深寬比和複雜結構具有相同特性之薄膜沉積。

  • 遠程等離子體電漿源。

  • 前驅物材料可多達6種並可分別加熱到200°C。

  • 快速脈衝的氣體輸送閥,反應時間為10毫秒。

  • 通過穩定的溫度控制,將基板載盤加熱到800°C。

  • 材料:Al2O3, HfO2, SiO2, TiO2, Ta2O5, ZnO, AZO, HfO2, SiO2 , TiO2, GaO2, AlN, SiN, Pt…等等。

  • 可以與傳送腔、機械手臂和手套箱整合在一起。

  • 橢圓偏振光譜儀。

  • 高真空傳送系統。






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應用領域腔體
  • 高k值之氧化物。

  • OLED和矽太陽能電池的鈍化層。

  • 微機電系統。

  • 納米電子學。

  • 納米孔結構薄膜。

  • 光學薄膜。

  • 薄膜封裝技術。

  • 鋁腔或者不銹鋼腔體,其佔地面積小,可縮短製程時間。

  • 通過使用水冷系統、加熱器或加熱包來控制腔體溫度。




配置和優點選件
  • 客製化的基板尺寸,最大直徑可達300mm晶圓。

  • 優異的薄膜均勻度小於±1%。

  • 較高的深寬比和複雜結構具有相同特性之薄膜沉積。

  • 遠程等離子體電漿源。

  • 前驅物材料可多達6種並可分別加熱到200°C。

  • 快速脈衝的氣體輸送閥,反應時間為10毫秒。

  • 通過穩定的溫度控制,將基板載盤加熱到800°C。

  • 材料:Al2O3, HfO2, SiO2, TiO2, Ta2O5, ZnO, AZO, HfO2, SiO2 , TiO2, GaO2, AlN, SiN, Pt…等等。

  • 可以與傳送腔、機械手臂和手套箱整合在一起。

  • 橢圓偏振光譜儀。

  • 高真空傳送系統。







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