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沉积系统

简要描述:三到六个端口传送腔室可用于集成ICP等离子刻蚀机、RIE刻蚀机、原子层沉积系统、PECVD和ICPECVD沉积设备,以满足研发的要求。样品可以通过预真空室和/或真空片盒站加载。

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  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2023-09-08
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品牌其他品牌应用领域环保,化工,电子

沉积系统介绍

高产量

等离子蚀刻和沉积腔体可以与多达两个片盒站组合,用于到200 mm晶片的高产量工艺。

研发

三到六个端口传送腔室可用于集成ICP等离子刻蚀机、RIE刻蚀机、原子层沉积系统、PECVD和ICPECVD沉积设备,以满足研发的要求。样品可以通过预真空室和/或真空片盒站加载。

沉积系统包括等离子刻蚀和/或沉积腔体、传送腔室、预真空室或片盒站。传送腔室包括传送机械手臂,可适用于三至六个端口。可以使用多达两个片盒站来增加产量。传送腔室可以配备多种选择。

用于研发的SENTECH多腔系统通过图形用户界面控制软件操作。强大的控制软件可用于工业领域高产量的多腔系统。

 

 

2-modules RIE cluster for etching of aluminum pads16-ports cluster for industrial application2-modules cluster of ICP-RIE SI 500 and cryogenic etcher SI 500 C with vacuum loadlock6-ports cluster with two SI 500 RIE modules, cassette station, and vacuum loadlock for research and Low temperature plasma deposition cluster6-port cluster with ICP-module,ALD-module, and cassette stationPlasma Cluster Configuration with dual chamber architecture6-port cluster with ICPCVD-module, 2x ICP module, and 2 cassette stations

 

 

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