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批量式电浆辅助气相沉积设备

简要描述:批量式电浆辅助气相沉积设备为一种使用化学气相沉积技术,可为沉积反应提供能量。与传统的CVD方法相比,可在较低的温度下沉积各种薄膜且不会降低薄膜质量。

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  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-01-18
  • 访  问  量:298

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批量式电浆辅助气相沉积设备(Batch Type Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)為一種使用化學氣相沉積技術,可為沉積反應提供能量。與傳統的CVD方法相比,可在較低的溫度下沉積各種薄膜且不會降低薄膜質量。

此系統為專對派瑞林(Parylene)所設計,其腔體內部具有公自轉知特性,並批量式生產。而Parylene薄膜具有高均勻性、高填孔特性、高穿透性…等特性。可應用於光電元件封裝、電路板絕緣…等。

批量式电浆辅助气相沉积设备参数:

應用领域腔體
  • 醫療和商業產品的耐磨薄膜

  • 封裝、絕緣

  • 防刮顯示屏

  • 客製化的腔體尺寸,取決於基板尺寸和其應用

  • 通過使用水冷、水熱系統或加熱器來控制腔體溫度


配置和優點選件
  • 客製化的基板

  • 多載片

  • 優異的薄膜均勻性小於+-3%

  • 精準流量控制器,氣體分佈高度均勻

  • 使用電容式藕荷電漿(CCP)





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