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品牌 | 其他品牌 | 应用领域 | 环保,化工,电子 |
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ICP-CVD 感应耦合电浆化学气相沉积设备(ICP-CVD)是一種使用ICP的化學氣相沉積技術,可為沉積反應提供一些能量。與PECVD方法相比,ICP-CVD可以在較低的溫度下沉積各種薄膜而不會降低薄膜質量。因使用ICP做為電漿源,有電漿濃度較高、能量損耗較低、功率較大與反應速率較高等優點。
SYSKEY感应耦合电浆化学气相沉积设备的ICP-CVD可以精準的控制製程氣體與監控其數據(壓力、載台溫度),並提供高品質的薄膜。
應用領域 | 腔體 |
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配置和優點 | 選件 |
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