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Win win for you and me售前售中售后完整的服务体系
诚信经营质量保障价格合理服务完善RIE等离子刻蚀机SI 591:预真空室和计算机控制的等离子体刻蚀工艺条件,使得SI 591 具有优异的工艺再现性和等离子体蚀刻工艺灵活性。灵活性、模块性和占地面积小是SI 591的设计特点。样品直径大可达200mm,通过载片器加载。SI 591可以配置为穿墙式操作或具有更多选项的小占地面积操作。
RIE Etchlab 200等离子刻蚀机根据其模块化设计,等离子蚀刻机Etchlab 200可升级为更大的真空泵组,预真空室和更多的气路。
等离子刻蚀机由于离子能量低,离子能量分布带宽窄,因此可以用我们的等离子体刻蚀机SI 500进行低损伤刻蚀和纳米结构的刻蚀。