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  • 2026

    10-20

    复合式影像测量仪是集成光学影像、激光、白光共聚焦和接触式测头的多传感器精密检测设备,一次装夹即可完成复杂工件的全尺寸测量,部分机型精度可达‌亚微米级‌,广泛应用于3C电子、汽车零部件、航空航天、医疗器械等高精度检测场景。核心功能1.二维几何尺寸测量:这是基础功能,可测量点、线、圆、圆弧、矩形、槽宽、孔距、角度、半径等平面尺寸,快速抓取零件外轮廓、PCB线路、冲压件外形,适合大批量平面尺寸抽检。2.三维形位公差测量:借助接触测头与激光模块,完成高度、深度、厚度、平面度、平行度、...

  • 2026

    10-18

    在半导体、微电子、光电子以及MEMS等领域,微纳加工精度直接影响器件性能。作为干法刻蚀中的重要设备,反应离子刻蚀机在图形转移和材料去除环节扮演着关键角色。本文从原理、特点、应用和选型角度,对该设备做一梳理。一、基本原理与工作方式反应离子刻蚀机结合了物理轰击与化学反应两种机制。在真空环境下,工艺气体被激发形成等离子体,其中包含离子、自由基和电子等活性粒子。离子在电场作用下垂直轰击晶圆表面,使表面原子获得能量而脱离;与此同时,自由基与材料发生化学反应,生成挥发性产物并被抽走。物理...

  • 2026

    10-14

    在微电子、光电子和精密制造领域,刻蚀系统是实现图形转移和材料精细去除的核心装备之一。随着器件特征尺寸不断缩小、材料体系日益多样,刻蚀系统已从单一设备演变为包含真空、气体、等离子体、检测和控制等多个子系统的综合平台。本文从系统集成角度,梳理其构成、关键要素和应用思路。一、刻蚀系统的基本构成一套完整的刻蚀系统通常包括真空腔体与抽气单元、气体输送与流量控制单元、等离子体激发单元、电极与温控单元、终点检测单元、自动传片单元以及整机控制软件。各单元之间需要紧密配合,才能保证工艺的稳定性...

  • 2026

    10-9

    清洗机在半导体制造、精密加工和实验室环境中承担着去除颗粒、残留物和污染物的任务。操作是否规范,直接影响清洗效果和基材安全。本文围绕清洗机的实际使用,梳理从准备到维护的完整流程。一、操作前的检查与准备启动清洗机前,应先确认设备处于正常状态。检查清洗槽或腔体是否清洁,有无前次使用留下的残留物。确认清洗液液位在合理范围,管路和喷淋装置无堵塞。对于超声波清洗机,还需检查换能器工作是否正常。待清洗工件应分类放置,避免不同材质或污染程度不同的工件混洗造成交叉污染。同时确认电源、气源和排液...

  • 2026

    9-24

    接触式粗糙度轮廓仪是集表面粗糙度与轮廓测量功能于一体的精密计量仪器,依靠金刚石触针扫描工件表面获取微观形貌数据,广泛适配机械加工、汽车制造、航空航天等领域的硬质工件精密检测场景。高精度粗糙度参数检测:这是设备的基础核心功能,可精准检测行业通用的各类粗糙度参数,,适配国标、国际通用检测标准。可精准识别抛光、磨削、车削、铣削等不同加工工艺留下的微观表面纹理,精准判定工件表面加工质量是否达标。区别于单一粗糙度检测仪,该设备可完整复刻工件被测区域的二维微观轮廓曲线,直观呈现表面凹凸分...

  • 2026

    9-13

    扫描电镜(SEM)是材料科学、失效分析和微纳加工等领域常用的表征工具之一。它的操作看似直观——放样、抽真空、调焦、拍照——但真正决定图像质量和数据有效性的,往往是那些不起眼的“前期功夫”。同样的样品,不同人操作出来的图像清晰度和信息量可能相差甚远。以下从实际操作角度,梳理扫描电镜使用中最容易被忽视的几个环节。样品制备:清洁、导电、固定,缺一不可样品制备是扫描电镜操作的第一步,也是最容易引入人为误差的环节。对于非导电样品,需要在表面喷镀一层导电膜(金、铂或碳),以消除荷电效应。...

  • 2026

    9-7

    双束电镜(FIB-SEM)是一台将扫描电镜(SEM)和聚焦离子束(FIB)整合在同一系统内的分析仪器。它配备了两束独立的光柱:一束是电子束,用于高分辨率成像;另一束是离子束(通常为镓离子),用于微纳尺度的切割、刻蚀和沉积。这两束光在样品表面相交于同一点,使操作者能够在“看到”的同时“加工”样品,实现了从表面观察到内部三维结构解析的跨越。理解双束电镜的工作原理,有助于更好地利用其独特功能,并合理选择加工参数。离子束的聚焦与加工聚焦离子束系统与电子束光柱在结构上有相似之处,但离子...

  • 2026

    9-3

    光栅刻蚀这东西,原理上没啥秘密——用干涉曝光或电子束做好光刻胶光栅掩模,然后把它转移到下面的衬底上。但为什么市面上光栅,尤其是用于光谱仪、激光器、光通信的那些,总绕不开几个英国厂家的名字?工艺稳定性是一方面,操作层面的死磕精神是另一方面。光栅刻蚀的操作,细节密度高,每一个“差不多”最后都会体现在衍射效率和杂散光上。光栅最怕的不是刻歪,是“刻脏”操作光栅刻蚀的第一条铁律:洁净度高于一切。光栅表面一旦沾上纳米级颗粒,刻蚀过程中这个颗粒就会充当“微掩膜”,在它下面形成一个凸起,整个...

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