咨询热线

13810961731

当前位置:首页  >  产品展示  >  其他设备  >  退火炉  >  退火炉

退火炉

简要描述:退火炉是用于制造半导体元件的制程方法。该制程包括加热多个半导体晶片以影响其电性能。热处理旨在达到不同的效果。可以加热晶片以激活掺杂剂,使沉积的膜至密化,并改变生长的膜的状态。

  • 产品型号:
  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-01-18
  • 访  问  量:343

产品分类

Product Category

相关文章

Related Articles

详细介绍

品牌其他品牌应用领域环保,化工,电子

退火炉是用于制造半导体元件的制程方法。该制程包括加热多个半导体晶片以影响其电性能。热处理旨在达到不同的效果。可以加热晶片以激活掺杂剂,使沉积的膜至密化,并改变生长的膜的状态。暴露在高温下可以修复损坏。该过程称为退火。 炉子退火可以集成到其他炉子处理步驟中,例如氧化,也可以单独处理。

image.png

退火炉技术参数

应用領域腔体
  • 半導體。

  • MEMs。

  • 納米技術。

  • LED。

  • 太陽能電池產業。

  • 平板顯示器。

  • 通過使用加圈和水冷不銹鋼法蘭來控製石英管的溫度。

  • 爐管配置:水平,結合傳送機構。

  • 帶有視窗的手動爐門。


配置和優點選件
  • 石英管尺寸:最大12英寸。

  • 單載片或多載片(最多50個晶圓)。

  • 控制精度:<±1°C。

  • 製程氣體:N2、Ar、H2。

  • 最高溫度:最高1700°C。

  • 抽氣閥件前端會有冷凍捕捉器。

  • 易於清潔和維護。

  • 和自動傳送組成在一起。







产品咨询

留言框

  • 产品:

  • 您的单位:

  • 您的姓名:

  • 联系电话:

  • 常用邮箱:

  • 省份:

  • 详细地址:

  • 补充说明:

  • 验证码:

    请输入计算结果(填写阿拉伯数字),如:三加四=7