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超高真空电子束蒸镀设备

简要描述:超高真空电子束蒸镀设备的特征为其真空压力低于10-8至10-12 Torr,在化学物理和工程领域十分常见。超高真空环境对于科学研究非常重要,因为实验通常要求,在整个实验过程中,表面应保持无污染状态和使用较低能量的电子和离子的实验技术的使用,而不會受到气相散射的过度干扰。

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  • 厂商性质:经销商
  • 更新时间:2024-01-18
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超高真空电子束蒸镀设备介绍

超高真空環境的特徵為其真空壓力低於10-8至10-12 Torr,在化學物理和工程領域十分常見。超高真空環境對於科學研究非常重要,因為實驗通常要求,在整個實驗過程中,表面應保持無污染狀態和使用較低能量的電子和離子的實驗技術的使用,而不會受到氣相散射的過度干擾。在這樣超高真空環境下使用電子束蒸鍍,SYSKEY可以提供高品質的薄膜。

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針對超高真空和高溫加熱設計基板旋轉鍍膜機構,使用陶瓷培林旋轉,並在內部做水冷循環來保護機構以確保長時間運轉的穩定性。

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超高真空电子束蒸镀设备應用领域腔體
  • 光學材料研究(LED/Laser Diode)。

  • 光電元件。

  • 半導體元件。

  • 客製化的腔體尺寸取決於基板尺寸和其應用。

  • 腔體為使用金屬密封圈並可烘烤至150oC。

  • 腔體的極限真空度約為10-10Torr。

配置和優點選件
  • 客製化的基板尺寸,最大直徑可達8吋晶圓。

  • 優異的薄膜均勻度小於±3%。

  • 具有水冷坩堝的多組坩鍋旋轉電子束源(1/2/4/6坩堝)。

  • 自動鍍膜系統。

  • 具有順序操作或共沉積的多個電子束源。

  • 基板具有冷卻(液態氮溫度低至-70°C)或加熱(溫度最高800°C)等功能。

  • 可以與傳送腔、機械手臂和手套箱整合在一起。

  • 結合離子源、濺鍍槍、熱蒸發源、等離子清潔...。

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