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熱蒸鍍設備

简要描述:熱蒸鍍設備是用於沉積材料中簡單的物理氣相沉積(PVD)。將材料(金屬或者有機材料等)置於真空環境中的電阻熱源中,使其加熱並蒸發,以最直接的方式蒸發到基板上,然後在基板上凝結成固態形成薄膜。

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  • 更新时间:2023-09-09
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熱蒸鍍設備

熱蒸發製程是用於沉積材料中簡單的物理氣相沉積(PVD)。將材料(金屬或者有機材料等)置於真空環境中的電阻熱源中,使其加熱並蒸發,以最直接的方式蒸發到基板上,然後在基板上凝結成固態形成薄膜。熱蒸發比濺鍍提供更快的蒸發速率,但是,其容納材料的舟或坩堝尺寸有限,並且難以控制其蒸發速率。該方法通常用於小規模同時控制多組電阻熱源來沉積電極,如單層薄膜或共蒸發薄膜。

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