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磁控濺鍍

简要描述:磁控濺鍍沉積為一種物理氣相沉積(PVD)方法,通過從靶材濺鍍出材料,然後沉積至基板上來形成薄膜。在這種技術中,大多使用氬氣或氮氣等離子轟擊靶材,並將基板以適當的距離放置在靶材的前面。

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  • 更新时间:2023-09-08
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磁控濺鍍沉積為一種物理氣相沉積(PVD)方法,通過從靶材濺鍍出材料,然後沉積至基板上來形成薄膜。在這種技術中,大多使用氬氣或氮氣等離子轟擊靶材,並將基板以適當的距離放置在靶材的前面。由於碰撞的動量,離子中的正離子將以很高的速度轟擊靶材。這些顆粒以薄膜的形式沉積在基板表面上。根據靶材的不同,可以適當調整濺鍍槍的功率,例如用於導電靶材的直流電源和用於非導電靶材的射頻電源。
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如今,磁控濺鍍沉積製程已成為一種在半導體、LCD面板、太陽能面板和光學元件等許多應用中的核心技術,其薄膜的均勻性和大規模的商業效率比熱蒸發材料方法更為重要。

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