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  • 2023

    12-20

    卡尔蔡司电子显微镜是一种高级科学仪器,用于观察微观结构和细胞组织的特定细节。它采用电子束而不是光束,能够提供比光学显微镜更高的分辨率和放大倍数。以下是卡尔蔡司电子显微镜的使用方法的详细说明:准备样本在使用电子显微镜之前,首先需要准备好适合观察的样本。样本应当经过特殊处理,以提高其导电性并保持其结构完整性。眼镜和手套在处理样本时,佩戴适当的安全眼镜和手套,以保护眼睛和手部免受潜在的危险。选择合适的显微镜模式根据您的观察需求,选择适用的显微镜模式。一般来说,电子显微镜有两种模式:...

  • 2023

    12-13

    作为奥林巴斯的密切合作伙伴,我们总是可以在最短的时间内获取到奥林巴斯最新的消息。奥林巴斯显微镜将会在今年年底或者是2024年年初的时候进行价格调整,上调比例为7%~10%。北京时间2023年11月27日发布。作为为用户提供高性价比产品的代理经销商,我们有必要和义务为客户提供理想的显微成像解决方案,但是也要保证客户可以花最少的钱买到心仪的产品,因此我们建议客户在2023.12月份左右抓紧时间下单,保证所购买的产品是现价而非涨价后的价格。

  • 2023

    11-22

    蔡司共聚焦显微镜是一种高级显微镜,能够提供高分辨率和高对比度的显微观察。以下是该显微镜的使用方法:准备工作:确保显微镜的工作环境干净整洁,准备好显微镜所需的样品和载玻片。检查显微镜的镜头和光源是否干净,调整显微镜的对焦机构,使其处于合适的位置。安装样品:将待观察的样品放置在载玻片上,然后将载玻片放入显微镜的样品台中。确保样品平整,不要有明显的倾斜或移动。对焦调节:使用显微镜的对焦机构将样品调整到合适的对焦位置。开始时,可以使用低倍镜头进行初步对焦,然后再使用高倍镜头进行微调。...

  • 2023

    10-24

    椭偏仪是一种用于测量光学元件(如晶体、薄膜等)的光学性质的仪器。它主要用于测量材料的光学旋光性质和双折射性质。下面是椭偏仪的使用方法的详细介绍。1.准备工作首先,确保椭偏仪处于正常工作状态。检查仪器的电源、光源和检测器等部分是否正常工作,并进行必要的校准和调试。2.样品准备准备待测样品,通常是晶体或薄膜。样品应具有一定的透光性,并且表面应清洁无污染。如果需要,可以使用样品夹具将样品固定在适当的位置上。3.调整光路调整椭偏仪的光路,确保光线能够顺利通过样品。根据仪器的不同,可能...

  • 2023

    10-10

    第五届世界生殖生物学大会的公告于北京时间2023年9月13日开展,大会由中国生殖生物学学会(CSRB)主办,旨在汇集主要的学术科学家、研究人员和研究学者,交流和分享他们对生殖生物学各个方面的兴趣、经验和研究成果。大会将为所有与会者提供全体讲座、跨学科研讨会、口头和海报会议,以介绍和讨论生殖生物学领域的最新趋势和关切。我们希望在大会上延续WCRB的优秀传统,进一步发扬其价值观。WCRB2023将与7个国际学会合作举办:生殖研究学会(SSR,美国)、生殖生物学学会(SRB,澳大利...

  • 2023

    9-22

    原子层沉积是一种薄膜制备技术,它通过在衬底表面逐层沉积单原子或分子层来构建所需的薄膜结构。下面是一种使用原子层沉积的基本方法:1.准备衬底:首先准备一个干净、平整的衬底。确保表面没有杂质和污染物,以保证薄膜的质量。2.清洗衬底:使用适当的清洗方法(如超声波清洗、化学溶液清洗等)将衬底清洗干净,去除表面的氧化物、脏物和杂质。3.前处理:根据需要,可以在衬底表面进行一些前处理步骤,如表面活化、化学修饰等,以便增强薄膜的附着性和特定性能。4.ALD沉积:将预先选择好的沉积原料分子(...

  • 2023

    9-11

    化学气相沉积系统是一种常用的材料生长技术,广泛应用于制备薄膜、纳米颗粒和纳米线等材料。下面是关于化学气相沉积系统的使用方法的文章,希望能对您有所帮助。化学气相沉积系统的使用方法化学气相沉积系统(CVD)是一种将气相反应物转化成固态产物的方法。该系统需要以下关键组件:反应室、进气系统、底部加热炉、载气系统、真空系统和废气处理系统。首先,要确保系统处于干净和安全的状态。清洁各个组件,确保无尘、无杂质以及无明显磨损。接下来,将待沉积的材料片或基底放置在反应室中的样品架上。注意,材料...

  • 2023

    8-23

    深硅刻蚀是一种重要的微电子制造技术,广泛应用于半导体材料加工中。它通过控制化学反应来刻蚀硅材料,从而实现对硅片的精确加工和微细结构的制作。深硅刻蚀的使用方法通常包括以下几个步骤:1.贴装:将待加工的硅片粘贴到专用工艺底座或支架上。这样做可以保持硅片的平整度,同时确保整个加工过程的稳定性。2.清洗:将硅片放入去离子水中进行清洗,去除表面的杂质和污染物。清洗的目的是为了确保后续刻蚀过程的纯净度,以获得最佳的刻蚀效果。3.驻留:在清洗完毕后,将硅片放入驻留槽中,让硅片与刻蚀液接触一...

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