双束电镜是一种高级显微技术，它利用电子束而非可见光来照射样品，从而产生高分辨率的图像。与传统单束电子显微镜相比，双束电镜具有更高的空间分辨率和更好的深度信息。首先，我们来介绍双束电镜的基本原理。与传统电子显微镜不同，该设备使用两个电子束同时照射样品，一个束用于成像，另一个束则用于修正成像所遇到的散射。通过对这两束电子的交互作用进行精确控制，该设备能够消除成像中的模糊和畸变，从而实现更清晰和准确的成像。其次，双束电镜的应用领域非常广泛。由于其出色的分辨率和深度信息，它已经被广泛...

扫描电镜是一种高分辨率成像仪器，常用于观察微小的表面形貌和结构，具有很高的分辨率和放大倍数。以下是扫描电镜的使用方法及注意事项。一、使用方法：1.样品制备。首先需要将待观察的样品进行制备，如金属、陶瓷等坚硬材料需要切割或打磨;生物组织需要切片。制备完成后需要将样品放置在真空室中。2真空处理。开启真空泵对真空室进行抽气，直至压力达到规定值。保持真空室内恒温，并且在操作过程中不得打开真空室门，以免污染样品表面。3.像素设置。根据所需的分辨率和放大倍数等参数进行设置。4.样品安装。...

等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀，是干法刻蚀中最常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。某种程度来讲，等离子清洗实质上是等离子体刻蚀的一种较轻微的情况。进行干式蚀刻工艺的设备包括反应室、电源、真空部分。工件送入被真空泵抽空的反应室。气...

在材料领域，扫描电镜技术扮演了极为重要的角色，广泛用于多种材料形态结构，界面状况，损伤机制和材料性能预测的研究。自从1965年第一台商品扫描电镜问世以来，经过40多年的不断改进，扫描电镜的分辨率从第一台的25nm提高到现在的0.01nm，而且大多数扫描电镜都能与X射线波谱仪、X射线能谱仪等组合，成为一种对表面微观世界能够经行全面分析的多功能电子显微仪器。用扫描电镜可直接对晶体缺陷及生成过程进行研究，可观测金属材料内部原子及其真实边界的集结模式，还可观测不同情况下边界的运动模式...

扫描电镜全称为扫描电子显微镜，通过用聚焦电子束扫描样品的表面而产生样品表面的图像。它由电子光学系统、信号收集及显示系统、真空系统和电源系统组成，应用于生物、医学、材料和化学等领域。扫描电镜(SEM)是介于透射电镜和光学显微镜之间的一种微观形貌观察手段，可直接利用样品表面材料的物质性能进行微观成像。扫描电镜的优点如下：①有较高的放大倍数，20-20万倍之间连续可调;②有很大的景深，视野大，成像富有立体感，可直接观察各种试样凹凸不平表面的细微结构;③试样制备简单。目前的扫描电镜都...

透射电镜可以看到在光学显微镜下无法看清的小于0.2um的细微结构，这些结构称为亚显微结构或超微结构。要想看清这些结构，就必须选择波长更短的光源，以提高显微镜的分辨率。1932年Ruska发明了以电子束为光源的透射电子显微镜，电子束的波长要比可见光和紫外光短得多，并且电子束的波长与发射电子束的电压平方根成反比，也就是说电压越高波长越短。目前TEM的分辨力可达0.2nm。透射电镜的成像原理可分为三种情况：1、吸收像：当电子射到质量、密度大的样品时，主要的成相作用是散射作用。样品上...

深硅刻蚀是一种常用的微纳加工技术，它可以在硅基材料上进行高精度的图案制作和三维结构加工。本文将围绕深硅刻蚀展开讨论，并介绍其原理、应用和发展趋势等方面。一、深硅刻蚀原理该产品利用化学反应或物理过程来去除硅基材料表面的物质，从而实现加工目的。其中常用的方法是湿法蚀刻和干法蚀刻两种。湿法蚀刻是利用强酸或强碱腐蚀硅材料，使其发生化学反应，从而去除表面物质。干法蚀刻则是通过离子轰击或化学气相反应来去除硅材料表面的物质。二、深硅刻蚀的应用该产品在微纳加工中有着广泛的应用。例如，在MEM...

奥林巴斯倒置显微镜性能样品放置在载物台上后，无需任何光学调节，立即可以进行观察。预调心相差滑板，进行快捷、无像差观察。使用预调心的像差滑板无需在每次更换物镜时重复调心。另外，10×，20×40×物镜观察时使用一个相差环板，免去了相差环板的更换。CKX系列使相差观察快捷简便，不需要进行光学调节，大大提高了常规检查的效率。奥林巴斯倒置显微镜保养1．清洁各种玻璃部件时，用纱布轻轻擦拭，除掉指纹或油责；2．不要使用有机溶剂擦拭显微镜非光学部件，如果要清洁这些部件，请使用一块无毛柔软的...