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電子束蒸鍍

简要描述:電子束蒸鍍為一種物理氣相沉積(PVD)技術,其中電子束是由鎢絲所產生的,並受到電場和磁場的驅動而朝向蒸發材料,並將其材料由固態轉化為氣態以沉積在基板表面上。且該過程需在高真空環境中,以通過自由路徑的方式在基板表面上形成薄膜。

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  • 更新时间:2023-09-09
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電子束蒸鍍系統為一種物理氣相沉積(PVD)技術,其中電子束是由鎢絲所產生的,並受到電場和磁場的驅動而朝向蒸發材料,並將其材料由固態轉化為氣態以沉積在基板表面上。且該過程需在高真空環境中,以通過自由路徑的方式在基板表面上形成薄膜。

電子束蒸鍍比熱蒸發更具有優勢。它能夠在非常高的溫度下熔化材料,如鎢、石墨...等等。結合石英震盪片的反饋信號,可輕鬆控制蒸發速率,以調節電子束電流並蒸發更多材料而不會破壞真空。因此,電子束蒸發用於薄膜製程領域,包括半導體、光學、太陽能電池板、玻璃和建築玻璃,因此它們具有所需的導電,反射,透射和電子等特性。

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