多技术电子束光刻系统

灵活性、多功能性和 SEM 成像

eLINE Plus 标志

这种多功能的多技术纳米光刻系统将 EBL 系统与用于定制实验和工艺的开放平台相结合。eLINE Plus 具有一系列不同的选项，是通用的纳米工程 EBL 系统。

先锋二号标志

EBL-SEM 混合系统将先进的纳米光刻和分析 SEM 成像结合在一个工具中。PIONEER Two 定义了一种新型的经济型专业电子束光刻系统，适用于纳米加工和基于 SEM 的分析。