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专用电子束光刻系统

简要描述：专用电子束光刻系统这些创新、智能配置的电子束光刻系统可以轻松有效地实现纳米加工。所有 Raith EBL 系统都配备了高精度激光干涉仪平台和图案发生器，可为您的工作提供Z高的精度和速度。其他功能（例如traxx 和 periodixx、无拼接错误曝光模式以及Nanosuite（直观且全面的纳米光刻软件） ）使 Raith 的系统有别于其他纳米光刻设备。联系我们讨论哪种系统适合您的需求。

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  • 厂商性质：经销商
  • 更新时间：2024-07-10
  • 访  问  量：349
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品牌其他品牌应用领域环保,化工,电子

专用电子束光刻系统
自动化、稳定性和吞吐量

 

徽标 EBPG Plus 浅灰色

 

EBPG Plus 高性能纳米光刻系统可在 100 kV 电压下提供高达 8 英寸的能力。其全自动化、高速和高分辨率可以为中心的操作以及半导体制造产生的光刻技术。

 

 

凭借其创新的架构和具有吸引力的拥有成本，VOYAGER 纳米光刻系统降低了高速电子束光刻的准入门槛。

 

RAITH150 两个标志

 

RAITH150 两个直写工具提供超高分辨率 EBL 和出色的成像能力。亚 8 纳米结构可以在从几毫米到 8 英寸晶圆的样品尺寸上实现，而热稳定性即使在具有挑战性的环境中也能支持最高性能。

多技术电子束光刻系统

灵活性、多功能性和 SEM 成像

 

eLINE Plus 标志

 

这种多功能的多技术纳米光刻系统将 EBL 系统与用于定制实验和工艺的开放平台相结合。eLINE Plus 具有一系列不同的选项，是通用的纳米工程 EBL 系统。

 

先锋二号标志

 

EBL-SEM 混合系统将先进的纳米光刻和分析 SEM 成像结合在一个工具中。PIONEER Two 定义了一种新型的经济型专业电子束光刻系统，适用于纳米加工和基于 SEM 的分析。

 

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