追求合作共赢
Win win for you and me售前售中售后完整的服务体系
诚信经营质量保障价格合理服务完善相关文章
Related Articles详细介绍
品牌 | 其他品牌 | 应用领域 | 环保,化工,电子 |
---|
集成等离子刻蚀和沉积的多腔系统
高产量
等离子蚀刻和沉积腔体可以与多达两个片盒站组合,用于到200 mm晶片的高产量工艺。
研发
三到六个端口传送腔室可用于集成ICP等离子刻蚀机、RIE刻蚀机、原子层沉积系统、PECVD和ICPECVD沉积设备,以满足研发的要求。样品可以通过预真空室和/或真空片盒站加载。
SENTECH多腔系统包括等离子刻蚀和/或沉积腔体、传送腔室、预真空室或片盒站。传送腔室包括传送机械手臂,可适用于三至六个端口。可以使用多达两个片盒站来增加产量。传送腔室可以配备多种选择。
用于研发的SENTECH多腔系统通过图形用户界面控制软件操作。强大的控制软件可用于工业领域高产量的多腔系统。
产品咨询